AI向けの高性能半導体投入 米エヌビディアが成長へ布石 処理性能1・5倍に

米サンノゼでのエヌビディア開発会議で説明を行うフアンCEO=18日(ゲッティ=共同)
米サンノゼでのエヌビディア開発会議で説明を行うフアンCEO=18日(ゲッティ=共同)

米半導体大手エヌビディアは18日、西部カリフォルニア州サンノゼで開いた開発者会議で、生成人工知能(AI)向けの新型半導体「ブラックウェル」の上位モデルを2025年後半に投入すると発表した。AIの処理性能を従来の1・5倍程度に高めたのが特徴。次世代モデルを26年以降に展開する方針も明らかにし、製品性能を高め成長への布石を打つ構えだ。

エヌビディアの主力製品は、大量の計算を同時に実行できる画像処理装置(GPU)。生成AIの学習や推論の処理に使われ、AIブームにも乗って市場で優位性を保っている。新型製品の投入で、競争力を維持できるかどうかが焦点となる。

ジェンスン・フアン最高経営責任者(CEO)はブラックウェルの上位モデルについて声明で「推論を簡単に効率的に行うことができる」と進化を強調した。(共同)

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